光刻材料
光刻胶
SU-8 2000系列 高对比度环氧树脂基负性光刻胶
• 高纵横比成像
• 0.5至>200um 单一涂层膜厚
• 改进涂料性能
• 快速干燥增加生产力
• 近紫外（350~400nm）加工
• 垂直侧壁
SU-8 3000系列 高对比度环氧树脂基负性光刻胶
• 提高粘附力
• 低涂层应力
• 高深宽比
• 垂直侧壁
联系方式
地址：北京市昌平区高新五街五号院北大创新谷国信园
联系人：高经理
联系邮箱：gaoyongjia@weinadongli.com