• 品牌：microlight3D
• 光源：385nm曝光/590nm对准
• 最小尺寸：1.5um
• 拼接精度：< 1um

• 光源：365nm UV
• 分辨率：1um
• 对准精度：±0.8um
• 曝光能量密度：>25mW/cm2

• 品牌：Leuven
• 衬底：硅、金属、化合物半导体等
• 片内刻蚀均匀性：< 5%
• 片间刻蚀均匀性：< 5%
• Bosch工艺，高深宽比

• 品牌：Oxford
• 温度：-150~400℃
• 离子密度：>1011cm3 • 出色的跨晶圆均匀性
• 出色的剖面控制
• 高刻蚀率、高选择性和低损伤加工

• 品牌：Picosun
• 衬底尺寸：50~200mm/单片
• 温度：50~500℃
• 电源功率：300W
• 前驱体：O2 Plasma、Hf等

• 品牌：Leuven
• 腔室极限真空：< 10mTorr
• 温度：200~400℃
• 激励电源频率：13.56MHz
• 激励电源功率：1KW

• 品牌：VPI
• 真空泵：旋转真空泵+涡轮分子泵
• 极限真空度：5×10-5Pa
• 腔体尺寸：Φ260*200mm
• 电源功率：< 3000W

• 品牌：SUSS
• 最高温度：550℃
• 最大压力：20kN
• 最大真空度：100mbar

品牌：szjiuju

• 品牌：memstools

品牌：Osiris

• 品牌：SAT

• 品牌：iontof
• 横向分辨率：< 50nm
• 质量分辨率：> 30000
• 广域动态范围与检测限

• 品牌：zeiss
• 二次电子图像分辨率：0.8nm
• ESB图像分辨率：1.2nm
• 加速电压：0.02~30kV
• 放大倍数：12~2000000x

• 品牌：KLA
• 垂直扫描分辨率：0.01nm
• 水平分辨率：<0.38um
• RMS重复精度：1nm
• 校正精度：< 0.1%

• 品牌：Bruker
• 垂直扫描范围：1mm
• 垂直扫描分辨率：1Å
• 单次扫描采集点：最大120000
• 台阶高度重复性：< 5Å

• 品牌：Olympus
• 最大扫描分辨率：4096*4096
• 光学变焦：1~50倍，增量0.01倍
• 扫描旋转：360度自由旋转，步进0.1度
• z轴精度：0.01um

• 品牌：Keyence
• 时效像素：1600*1200
• 最大扫描帧率：50F/s
• 高清晰动态范围：RGB 16bit